纳米级微米级金属粉体——铜粉

材料类型: 其他
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供应数量: 面议
发布时间: 2026年09月15日
产品描述
本系列铜粉采用 PVD 物理气相冷凝工艺制备,为类球形高纯铜金属粉体,可实现多粒径可控量产,可选 D50 规格包含 150nm、200nm、300nm、500nm、1000nm、2500nm、3500nm。颗粒球形度优良,卫星颗粒少,粒度分布窄,批次性能稳定。生产采用密闭真空腔体、惰性气氛保护、手套箱出料实现杂质管控,粉体导电性能优异,适配导电浆料、电磁屏蔽、粉末冶金等高端电子领域。产品支持试样和批量供货,关键指标可根据客户工艺定制,可提供 COA、RoHS、MSDS 全套检测资料,满足客户审核需求。
产品特性:粉体呈类球形,表面洁净,覆盖从纳米到微米完整粒径梯度,适配不同产品工艺要求。经过分散处理,有效降低硬团聚,适配浆料研磨、搅拌、印刷等加工工序。铜主含量高,严格管控碳、硫、铁等有害杂质。超细铜粉比表面积大,表面活性高,相较于微米气雾化铜粉更容易发生表面氧化,粒径越细,氧化趋势越明显,可根据客户需求做惰性钝化处理,改善储存抗氧化性能。
细粒径牌号烧结活性高,低温即可实现致密化,适合薄层导电线路制备;大粒径铜粉流动性佳,松装密度高,浆料沉降稳定性更好。粉体与有机载体相容性好,印刷涂布流畅,不易堵网,保障成膜均匀。整套生产闭环管控,每批次出具 COA 质检报告,保障下游产品性能稳定。
技术参数
制备工艺:PVD 物理气相冷凝法
可选粒径 D50:150nm、200nm、300nm、500nm、1000nm、2500nm、3500nm
颗粒形貌:类球形金属粉末
铜纯度:≥99%,可按需提升
粒度特征:粒度分布窄,粒径越小 BET 比表面积越高
杂质情况:严控碳、硫、铁有害杂质;超细粉体氧受表面效应影响,粒径越小氧含量越高
外观:紫红色金属粉末,无肉眼杂质、无结块
包装方式:铝箔真空充惰性气体包装,分为试样小包装、量产桶装。
各规格使用特点:150‑300nm 超细铜粉比表面积大,烧结活性高,适合低温导电浆料、催化材料;500‑1000nm 中等粒径铜粉兼顾导电性能与加工稳定性,广泛用于导电胶、电磁屏蔽涂料;2500‑3500nm 微米级铜粉流动性、填充性优异,适合厚膜浆料、粉末冶金零部件。
应用领域:第一,电子导电浆料与导电胶,用于厚膜电路、低温共烧陶瓷、电极浆料,替代部分贵金属粉体,实现降本,保障导电层连续稳定。
第二,电磁屏蔽、吸波复合材料,填充高分子基材制备屏蔽涂层、屏蔽垫片,利用铜粉高导电特性实现 EMI 电磁干扰屏蔽。
第三,粉末冶金,作为烧结原料或者活化烧结助剂,降低烧结温度,提升制品致密度。
第四,催化材料,高比表面积铜粉用于有机合成催化反应。
第五,导热复合材料、特种导电复合材料,以及各类科研研发场景。
技术参数

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