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  • 首次出现 📅 2026-08-21
  • 最近出现 📅 2026-08-28

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  • 用于钴化学机械抛光的组合物及方法用于钴化学机械抛光之组合物及方法;COMPOSITIONANDMETHODFORCOBALTCMP用于钴化学机械抛光之组合物及方法
    CN113166588A 🏢 CMC材料股份有限公司 📋 CMC材料股份有限公司
    用于对具有钴层的基板进行抛光的化学机械抛光组合物,其包括:基于水的液体载剂;阳离子型硅石研磨剂颗粒,其分散于该液体载剂中;及三唑化合物,其中该抛光组合物具有大于约6的pH,且该阳离子型硅石研磨剂颗粒具有至少10mV的ζ电位。该三唑化合物不为苯并三唑或苯并三唑化合物。用于对包括钴层的基板进行化学机械抛光的方法,其包括:使该基板与上述抛光组合物接触,相对于该基板移动该抛光组合物,以及研磨该基板以自该基...