金属3D打印粉末专利数据库

技术专利分析,助力材料研发与创新

按材料体系搜索
AlSi10Mg Ti6Al4V Inconel 718 316L CoCrMo CuCrZr 18Ni300 H13
按制备工艺搜索
气雾化 热等静压 SLM EBM 激光熔覆 等离子旋转电极 等离子球化
筛选条件
13586

专利总数

金属3D打印粉末相关
6472

主要申请人

企业/机构/个人
2026

最新数据

持续更新中

专利搜索结果 关键词: "SLM"

排序:
基于STED三维结构照明显微镜去离焦噪声方法及系统
实质审查的生效

专利号: CN118091915A

申请人: 中国科学技术大学
发明人: 金一;付朕安;陈怀安;戴俊康;竺长安
申请日期: 2024-01-23
公开日期: 2024-05-28
IPC分类: G02B27/58
摘要:
本申请公开了基于STED三维结构照明显微镜去离焦噪声方法及系统,通过利用荧光蛋白对样本进行标记;搭建三维结构光光路和STED光光路;设置三维结构光光路与STED光光路的SLM图案,所述SLM图案用于控制照射到样本上的STED光图案,以抑制离焦平面的荧光蛋白发光。即通过抑制离焦部分荧光粒子发光从而大大提高轴向上的分辨率并且提高获得图片的信噪比。利用STED光照技术,将STED光源引入到样品中,实现对样品的横向光照,由此,有效地抑制离焦面上的荧光分子的荧光,进而提高图像的纵向分辨率和图像的信噪比。
主权项:
1.一种基于STED三维结构照明显微镜去离焦噪声方法,其特征在于,包括:利用荧光蛋白对样本进行标记;搭建三维结构光光路和STED光光路;设置三维结构光光路与STED光光路的SLM图案,所述SLM图案用于控制照射到样本上的STED光图案,以抑制离焦平面的荧光蛋白发光。
一种用于大行程SLM设备的封闭式升降系统
实质审查的生效

专利号: CN118162635A

申请人: 宁波海天增材科技有限公司
发明人: 鲍汪园;王文贤;杨春宏
申请日期: 2024-01-17
公开日期: 2024-06-11
IPC分类: B22F10/28
摘要:
本发明公开了一种用于大行程SLM设备的封闭式升降系统,包括底架以及设置于其顶部一侧且内部构造为中空的基座,所述基座的顶部固定连接有与其内部连通的成形缸,所述基座的底部固定连接有其内部连通的下舱,所述下舱的一侧构造有用于置换下舱内气体的气路组件,所述基座的内部通过螺栓固定连接有基座板,所述成形缸的内部设置有基板,且基座板的内部设置有推动基板升降的驱动组件。通过设置驱动组件可以实现基板的所需高度位置,同时控制打印高度位置精度,气路组件可为成型系统内部提供惰性气体环境,密封式成型系统减少洗气时间,无需不间断洗气,从而减少安全隐患,提高打印质量。
主权项:
1.一种用于大行程SLM设备的封闭式升降系统,包括底架(100)以及设置于其顶部一侧且内部构造为中空的基座(200),其特征在于:所述底架(100)的顶部固定连接有成形舱(102),所述基座(200)的顶部固定连接有与其内部连通的成形缸(300),且成形缸(300)的顶部设置有开口并与成形舱(102)密封适配,所述基座(200)的底部固定连接有其内部连通的下舱(400),所述下舱(400)的一侧构造有用于置换下舱(400)内气体的气路组件,所述基座(200)的内部通过螺栓固定连接有基座板(201),所述成形缸(300)的内部设置有基板(203),且基座板(201)的内部设置有推动基板(203)升降的驱动组件。
一种产生空心光束的变高轴锥孔结构
实质审查的生效

专利号: CN118151397A

申请人: 南开大学
发明人: 匡登峰; 孙梦; 隋新骐
申请日期: 2024-01-15
公开日期: 2024-06-07
IPC分类: G02B27/00
摘要:
本发明公开了一种变高的、多层的、线性凹陷的轴锥孔结构。该结构是以斯涅尔定律、衍射元件设计原理以及光的折射定律为基础,对不同结构层的高度进行计算,实现各层高度由内向外逐渐降低的形态特征。平面波垂直入射,经过结构完成光束整形,形成外环局域能量占总能量90%以上、具有空心特性的光束。对该器件进行光束的偏振化处理,可以用来产生涡旋光束;此外该器件也可以用于粒子操纵、光学成像等领域,具有广泛的应用场景。
主权项:
1.一种产生空心光束的变高轴锥孔结构,其特征在于,包括以下步骤:步骤一:通过根据斯涅尔定律和衍射元件设计原理,,且满足。其中,λ是入射波波长,n是轴锥孔的折射率,是轴锥孔的周期。h是对应于单层结构时,从轴锥孔底部垂直入射平面波,能够产生理想空心光束的最佳高度,这作为变高结构其他层高度值的参考依据;步骤二:根据公式组(1)-(3)和高度变换的公式,计算不同结构层的对应高度,即。其中k=1,2,3……,分别对应第一层、第二层、第三层等。根据光的折射定律,,随着的增大,出射角增大。因此,为产生光强集中的空心光束,以轴锥孔的圆心对称中心,不同结构层的高度随着与对称中心之间的距离的增大而降低; (1) (2) (3)步骤三:将轴锥孔的相位信息投影在透射式空间光调制器(SLM)上。利用连续激光器作为激发光源,经空间滤波器滤波、扩束镜扩束准直,使得出射光成为平行光。利用偏振片组分别对光束进行偏振处理和图像显示,在空间光调制器的作用下产生轴锥孔的目标光场。经凸透镜组调整光束直径后,利用图像传感器完成光场信息的采集。
一种海缆传输资源管理系统及业务自动开通方法
实质审查的生效

专利号: CN117914716A

申请人: 浪潮通信信息系统有限公司
发明人: 解玉洁
申请日期: 2024-01-15
公开日期: 2024-04-19
IPC分类: H04L41/14
摘要:
本发明涉及海缆传输领域,具体提供了一种海缆传输资源管理系统及业务自动开通方法,创建IM综合资源管理系统管理配置各类海缆网络资源模型,包括海缆陆地设备SLTE、SLM、PFE和CTC;海底设备RPT、BU和ROADM;逻辑链路,波道,物理海缆、海缆段、海缆纤对模型和DSL模型。与现有技术相比,本发明实现业务自动激活,避免人工进行指令操作,降低出错成本,及人工处理工作量。
主权项:
1.一种海缆传输资源管理系统,其特征在于,创建IM综合资源管理系统管理配置各类海缆网络资源模型,包括海缆陆地设备SLTE、SLM、PFE和CTC;海底设备RPT、BU和ROADM;逻辑链路,波道,物理海缆、海缆段、海缆纤对模型和DSL模型。
一种基于SLM的均匀成形增材制造方法
实质审查的生效

专利号: CN117862529A

申请人: 深圳大学
发明人: 曾健华;刘志远;丁卯;刘佩锦;陈张伟
申请日期: 2024-01-12
公开日期: 2024-04-12
IPC分类: B22F10/28
摘要:
本申请提供了一种基于SLM的均匀成形增材制造方法,所述方法包括:建立待成型产品的三维模型,并对所述三维模型进行分层切片;获取混合粉末的种类和大小,并依据所述混合粉末的种类和大小建立叠加模型;其中,所述叠加模型包括第一打印参数和第二打印参数;依据所述分层切片和所述叠加模型逐层制造成型层,得到目标成型产品;其中,通过SLM增材制造技术和所述第一打印参数对所述混合粉末进行熔化,得到初始层;依据所述第二打印参数对所述初始层进行重熔,得到所述成型层。通过将不同打印参数的模型叠加的方式,实现对铺粉一层后的相同工件区域的多次重熔打印处理,使得混合粉末经历多次熔化?凝固行为,提高成分分布的均匀性。
主权项:
1.一种基于SLM的均匀成形增材制造方法,其特征在于,包括步骤:建立待成型产品的三维模型,并对所述三维模型进行分层切片;获取混合粉末的种类和大小,并依据所述混合粉末的种类和大小建立叠加模型;其中,所述叠加模型包括第一打印参数和第二打印参数;依据所述分层切片和所述叠加模型逐层制造成型层,得到目标成型产品;其中,通过SLM增材制造技术和所述第一打印参数对所述混合粉末进行熔化,得到初始层;依据所述第二打印参数对所述初始层进行重熔,得到所述成型层。
基于加权反馈复振幅约束的高质量激光图案化加工方法
实质审查的生效

专利号: CN117850187A

申请人: 北京理工大学
发明人: 姜澜;李韬拥;李晓炜;王志鹏;张向宇
申请日期: 2024-01-10
公开日期: 2024-04-09
IPC分类: G03H1/16
摘要:
本发明涉及基于加权反馈复振幅约束的高质量激光图案化加工方法,属于激光应用技术领域。本发明将加工图案与特定相位相乘得到目标复振幅光场,并进行傅里叶逆变换,将逆变换结果按照入射光振幅分布情况进行振幅限制,傅里叶变换后得到全息光场,对加工图案区域进行振幅加权反馈的复振幅约束,对周围背景区域进行能量加权反馈约束,重复上述步骤,得到最终的相位图。随后将相位图加载在空间光调制器上获得整形加工光场。相比传统计算方法,本方案通过额外相位约束消除了相位不匹配导致的散斑噪声,通过振幅加权反馈因子提高了算法的收敛能力,通过能量加权反馈因子精准调控加工所用能量效率,显著提高了单次曝光图案的加工一致性和能量稳定性,具有很强的适用性。
主权项:
1.基于加权反馈复振幅约束的高质量激光图案化加工方法,其特征在于:步骤一、创建待加工图案对应的目标振幅矩阵和目标相位矩阵;根据加工光路中空间光调制器液晶单元大小、聚焦物镜分辨率、物镜通光孔径物理参数,得到SLM平面离散空间坐标系uov和全息面离散空间坐标系xoy;将待加工图案代入全息面坐标系xoy中获得全息面目标振幅矩阵Aaim(x,y),其中待加工区域标记为1,其他背景区域标记为0;根据目标振幅矩阵中待加工图案区域像素大小,构建含有相位调控因子k的二次相位函数,代入SLM平面坐标系xoy中得到目标相位矩阵其中M和N分别为目标振幅矩阵中待加工区域在x和y方向上的像素长度;i为虚数;步骤二、创建初始化全息面光场矩阵;光场矩阵内含有振幅矩阵和相位矩阵两项信息,将目标振幅矩阵Aaim(x,y)中待加工图案区域元素值赋给全息面振幅矩阵Aout(x,y)中对应元素;引入背景区域振幅,设置为0.2;将目标相位矩阵元素值赋值给全息面相位矩阵则全息面光场矩阵Eout(x,y)的表达式为:其中,exp()代表以e为底的指数函数;步骤三、创建初始化振幅反馈矩阵M和能量反馈因子η:M1(x,y)=1,η1=η0其中,下标数字1代表振幅反馈矩阵M和能量反馈矩阵η的更新次数为1,η0为加工区域的目标能量效率;步骤四、使用振幅反馈矩阵M和能量反馈因子η对全息面光场矩阵Eout(x,y)内的振幅项Aout(x,y)进行加权反馈振幅约束,获得修正后全息面振幅矩阵A′out(x,y):其中,下标j数字代表振幅反馈矩阵M和能量反馈矩阵η的更新次数为第j次,和分别为待加工区域和背景区域求和的算子;步骤五、对全息面光场进行相位约束;使用目标相位矩阵元素值替换全息面光场矩阵Eout(x,y)中相位项在待加工图案区域内对应元素值,最终获得修正后全息面光场矩阵E′out(x,y):步骤六、计算全息面光场矩阵E′out(x,y)反向衍射到SLM平面处对应的SLM平面光场矩阵;对E′out(x,y)进行傅里叶逆变换,得到SLM平面光场矩阵Ein(u,v);使用实际入射激光的振幅矩阵A0替换Ein(u,v)中的振幅项;得到修正后SLM平面光场矩阵E′in(u,v):其中,F-1(x)为傅里叶逆变换算子,||为对应振幅项的取模算子;步骤七、计算SLM平面光场衍射到全息面处的全息光场矩阵;对SLM平面光场E′in(u,v)进行傅里叶变换,得到更新后的全息光场矩阵Eout(x,y):Eout(x,y)=F[E′in(u,v)]其中,F(x)为傅里叶变换算子;步骤八、更新振幅反馈矩阵M;基于全息光场矩阵Eout(x,y)内振幅项Aout(x,y)的波动情况,更新振幅反馈矩阵在待加工区域内的元素值,则更新后的振幅反馈矩阵M为:其中,<>代表对符号内矩阵元素取平均值;步骤九、更新能量反馈因子η;基于全息光场矩阵在待加工图案区域内的光强能量与周围背景区域光强能量的比值,更新能量反馈因子η:其中,∑()为求和算子;步骤十、重复步骤四至九,直到全息面光场均匀度满足加工需求;计算完成后,基于SLM平面相位矩阵生成全息图,将全息图加载在空间光调制器内获得高均匀度加工光场,最终获得高质量的激光加工图案。
多个神经网络联合训练的真实模糊三维全息图重建方法
实质审查的生效

专利号: CN117876591A

申请人: 浙江工业大学
发明人: 乐孜纯;费澳鑫
申请日期: 2024-01-09
公开日期: 2024-04-12
IPC分类: G06N3/08
摘要:
一种多个神经网络联合训练的真实模糊三维全息图重建方法,对于每个训练步骤,将训练集载入的RGB?D图像根据深度图分为三层,随机选取一层作为聚焦面,另外两层为非聚焦面,将三层分别输入到多个作为复振幅生成器的神经网络中合成复振幅场,编码为仅相位全息图后传播到近场进行图像重建,使用二值掩模板掩模后对聚焦面和非聚焦面与对应的经过高斯模糊的目标图像求取损失函数,对梯度反向传播以优化神经网络的权重。本发明重建得到的全息图,具有图像质量高,深度区分明显,图像模糊真实等优点,更类似于人眼观察的自然图像,有望在全息显示、VA/AR等场景中获得实际应用。
主权项:
1.一种多个神经网络联合训练的真实模糊三维全息图重建方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤一:对于每一个训练步骤,载入RGB-D图像,根据深度图生成三个二值掩模板,将图像分为三层;随机选择一层作为聚焦面,输入到第一个复振幅生成器,另外两层根据与聚焦面间隔的距离,分别输入到第二和第三个复振幅生成器;将输出的三个层的复振幅场合成为一个复振幅场;步骤二:用角谱法将复振幅场传播到SLM平面,将复振幅全息图进行仅相位编码得到仅相位全息图;步骤三:根据三个层中聚焦面与SLM平面的距离,将仅相位全息图用角谱法反向传播该距离得到重建后的图像;步骤四:对输入图像使用不同大小的高斯卷积核进行模糊处理,再分别乘以三个二值掩模板得到三个目标图像,对应聚焦面和两个非聚焦面;将重建的图像乘以相同的掩模板,并对每个部分与对应的目标图像代入损失函数求损失值;步骤五:将总损失值回传到网络模型通过反向传播更新网络权重,不断优化全息图,当达到设定的训练轮数时,训练结束;步骤六:对训练完成的模型输入RGB-D图像,将生成的计算全息图加载到空间光调制器上,从而获得立体图像的重建。
石墨负极用高强度碳碳匣钵的制备方法
实质审查的生效

专利号: CN117923932A

申请人: 上海翔丰华科技发展有限公司;
发明人: 宋宏芳;白宇;俞征斌;滕克军;赵东辉
申请日期: 2024-01-09
公开日期: 2024-04-26
IPC分类: C04B35/83
摘要:
本发明公开一种石墨负极用高强度碳碳匣钵的制备方法,将碳纤维通过裁剪,再粉碎成纤维粉,纤维粉与树脂浸剂混合后,依次经模压预成型、等静压、一次碳化、浸渍、二次碳化、精加工以及两次气相沉积后,制得高强度碳碳匣钵。通过将原料改为碳纤维,相比长碳纤维预制体,减少了制备工序,有明显的成本优势,再配合对预成型半成品进行等静压,增加了匣钵的密度且内部力学各向同性提高,提高了匣钵的强度性能,以及,通过两次阶段气相沉积,面密度大大提高,增强了匣钵的防氧化性能,整体工艺简单,易于批量化生产。
主权项:
1.一种石墨负极用高强度碳碳匣钵的制备方法,其特征在于:包括有以下步骤:(1)将碳纤维通过裁剪,再粉碎,得到纤维粉;(2)将步骤(1)得到的纤维粉与树脂浸剂搅拌均匀,纤维粉与树脂浸剂的质量比为(1-5):1,搅拌时长100-150min,搅拌频率30Hz,得到混合物;(3)将步骤(2)得到的混合物进行模压预成型,得到预成型半成品;(4)将步骤(3)得到的预成型半成品放置于等静压设备中进行等静压,压力>200MPa,压制时间为30-50min,得到匣钵胚;(5)将步骤(4)得到的匣钵胚放置于碳化炉中进行第一次碳化,碳化温度为800-1100℃,保温时间为10-15h,得到一次碳化后的匣钵胚;(6)将步骤(5)得到的一次碳化后的匣钵胚放置于浸渍釜中,加入树脂浸剂至浸没一次碳化后的匣钵胚,浸渍时间为60-120min,浸渍温度为70-150℃,浸渍后用无水乙醇将一次碳化后的匣钵胚表面残留的树脂清洗干净,得到浸渍后的匣钵胚;(7)将步骤(6)得到的浸渍后的匣钵胚放置于碳化炉中进行第二次碳化,碳化温度为800-1100℃,保温时间为10-15h,得到二次碳化后的匣钵胚,二次碳化后的匣钵胚之体密度要求≥1.35g/cm3;(8)将步骤(7)得到的二次碳化后的匣钵胚进行精加工,得到匣钵半成品;(9)将步骤(8)得到的匣钵半成品进行第一次CVD气相沉积,条件如下:等温等压化学气相,温度800-1100℃,压力5-10KPa,积气体为甲烷,气体流量100-200SLM,沉积时间50-100h,得到一次气相沉积的匣钵半成品;(10)将步骤(9)得到的一次气相沉积的匣钵半成品进行第二次CVD气相沉积,条件如下:等温等压化学气相,温度1100-1300℃,压力5-10KPa,积气体为甲烷,气体流量50-100SLM,沉积时间150-200h,得到高强度碳碳匣钵。
一种低漏电高可靠性高压整流二极管芯片制备方法
实质审查的生效

专利号: CN117832083A

申请人: 吉林华微电子股份有限公司
发明人: 于航;李大哲;李磊;李昆翔
申请日期: 2024-01-04
公开日期: 2024-04-05
IPC分类: H01L29/861
摘要:
本发明涉及微电子芯片生产制造领域,具体为一种低漏电高可靠性高压整流二极管芯片制备方法,包括以下步骤:S1:在N型硅片上,通过氧化工艺,形成一层1.9?2.1μm厚度的氧化层;S2:通过光刻和腐蚀工艺在硅片上形成基区窗口和分压环窗口结构;S3:在刻出的基区窗口和分压环窗口注入剂量为4.2×10<supgt;12</supgt;,能量为100KeV的硼离子;S4:将硅片放入温度为1275?1285℃、N<subgt;2</subgt;和O<subgt;2</subgt;的气体流量分别为10SLM/min和0.02SLM/min的扩散炉中,进行4310?4330min的推结操作;S5:注入剂量为2×10<supgt;15</supgt;,能量为100KeV的硼离子;本发明结构为平面结构,不涉及腐蚀硅,硅片厚度不改变,后续加工生产过程中不会出现碎片,生产成本大幅度降低;结构不需要划玻璃,只需要正常划硅,不会造成芯片崩边,产品终端完整,可靠性稳定。
主权项:
1.一种低漏电高可靠性高压整流二极管芯片制备方法,其特征在于:包括以下步骤:S1:在N型硅片上,通过氧化工艺,形成一层1.9-2.1μm厚度的氧化层;S2:通过光刻和腐蚀工艺在硅片上形成基区窗口和分压环窗口结构;S3:在刻出的基区窗口和分压环窗口注入剂量为4.2×1012,能量为100KeV的硼离子;S4:将硅片放入温度为1275-1285℃、N2和O2的气体流量分别为10SLM/min和0.02SLM/min的扩散炉中,进行4310-4330min的推结操作;S5:注入剂量为2×1015,能量为100KeV的硼离子;S6:将硅片放入温度为1245-1255℃,N2和O2的气体流量分别为10SLM/min和0.02SLM/min的扩散炉中,进行590-610min的继续推结操作;S7:通过光刻和腐蚀工艺在硅片上形成沟道截止环窗口,放入扩散炉中进行磷预扩,之后再放入扩散炉中进行磷主扩,形成沟道截止环;S7:通过光刻和腐蚀工艺在硅片上形成沟道截止环窗口,放入扩散炉中进行磷预扩,之后再放入扩散炉中进行磷主扩,形成沟道截止环;S8:淀积一层0.2μm厚度的Si3N4薄膜;S9:通过光刻和腐蚀工艺在硅片上进行引线刻蚀,此时形成引线孔结构;S10:通过光刻和腐蚀工艺在硅片上进行金属刻蚀,此步骤中采用金属场版设计的结构;S11:进行聚酰亚胺光刻腐蚀后进行背面蒸金属;S12:按照产品标准测试后进行划片。
一种SLM工艺成型的铜合金感应线圈及其制备方法和应用
实质审查的生效

专利号: CN117840454A

申请人: 五羊-本田摩托(广州)有限公司
发明人: 宋永强;毛艺奇;江仕钊;陈林枫;陈昌培
申请日期: 2024-01-02
公开日期: 2024-04-09
IPC分类: B22F10/28
摘要:
本发明涉及一种SLM工艺成型的铜合金感应线圈及其制备方法和应用,所述制备方法包括原材料制备:制备CuCrZr合金粉末;SLM成型;脱样;热处理;表面处理。本发明通过优化感应线圈的制造工艺,采用SLM工艺结合材料的选择,制备出一体成型的铜合金感应线圈,使得感应器制造可摆脱传统小元件加工?焊接工艺,大大提升制造精度,线圈工作磁场更规则,品质稳定性高,换型效率高,可应用于凸轮轴热处理感应器等。
主权项:
1.一种SLM工艺成型的铜合金感应线圈的制造方法,其特征在于,包括如下步骤:1)原材料制备:制备CuCrZr合金粉末;2)SLM成型:将制备得到的CuCrZr合金粉末装入3D打印设备粉仓中,并按照计算机生成的预加工件三维模型进行加工,加工方式为SLM选区激光熔化,在钢板上铺粉后使用激光束进行选区扫描;3)脱样:将打印好的工件去除成型支撑结构;4)热处理:脱样后的工件进行热处理;5)表面处理:热处理后的感应线圈进行表面光整处理。
一种适用于SLM设备的基板
实质审查的生效

专利号: CN117983841A

申请人: 宁波海天增材科技有限公司
发明人: 冉岩松; 王文贤; 杨春宏
申请日期: 2024-01-02
公开日期: 2024-05-07
IPC分类: B22F12/30
摘要:
本发明公开了一种适用于SLM设备的基板,包括成型缸体以及于成型缸体内预设的成型腔,所述成型腔的内部设置有用于放置打印工件的基板组件,所述基板组件的底端设置有对成型缸体的内部形成密封的活塞板,本发明在基板组件的上顶端设置有安装螺栓和紧定螺钉进行合理的排布,使得基板组件的四角通过紧定螺钉稍高于内部幅面,且四角固定组成标准的水平面,在进行安装打印基板时,可以以四颗紧定螺钉作为打印基板的安装面,能够避免每次拆装过程中的调平,同时在基板组件与成型缸体之间设置有软介质,来提高密封性,并阻挡金属粉末与基板组件的接触,提高基板组件的寿命。
主权项:
1.一种适用于SLM设备的基板,包括成型缸体(1)以及于成型缸体(1)内预设的成型腔(11),其特征在于:所述成型腔(11)的内部设置有用于放置打印工件的基板组件(2),所述基板组件(2)的底端设置有对成型缸体(1)的内部形成密封的活塞板(3)。
多维光信息测量系统及光信息处理方法
实质审查的生效

专利号: CN117889952A

申请人: 郑州大学
发明人: 马凤英;张朋威;高富友;苏建坡;何九如;胡永生
申请日期: 2023-12-30
公开日期: 2024-04-16
IPC分类: G01J1/04
摘要:
本发明公开了一种多维光信息测量系统和光信息处理方法,包括硬件模块和计算机,硬件模块包括准直光学模块、可变延迟器单元、可调滤波器单元、空间光调制器单元和图像传感器CCD,可变延迟器单元、可调滤波器单元、空间光调制器单元和图像传感器CCD均与计算机连接,计算机对硬件模块控制,使得可调滤波器每输出一个波长,第一可变延迟器和第二可变延迟器依次输出四组相位延迟,空间光调制器依次加载波长处的四个相位掩模,选出同一波长处SLM加载单透镜掩模时图像传感器CCD记录的四幅图像,进行光谱偏振图像处理;选出同一波长处SLM加载双透镜相位掩模时图像传感器CCD采集的12组全息图,进行光谱全息图处理,提高目标的探测精度。
主权项:
1.多维光信息测量系统,其特征在于:包括硬件模块和与硬件模块通信连接的计算机,所述硬件模块包括依次通过光连接的准直光学模块、可变延迟器单元、可调滤波器单元、空间光调制器单元和图像传感器CCD,所述可变延迟器单元、可调滤波器单元、空间光调制器单元和图像传感器CCD均与计算机通信连接;所述计算机上设置有控制指令产生模块和数字图像处理模块,所述控制指令产生模块包括相位延迟指令产生单元、光谱滤波指令产生单元、掩模加载指令产生单元、掩模制作单元和图像采集单元;所述相位延迟指令产生单元与可变延迟器单元通信连接,所述光谱滤波指令产生单元与可调滤波器单元通信连接,所述掩模制作单元与掩模加载指令产生单元通信连接,掩模加载指令产生单元与空间光调制器单元通信连接,所述图像采集单元和图像传感器CCD通信连接,所述数字图像处理模块包括光谱偏振图像处理单元和光谱全息图像处理单元,所述光谱偏振图像处理单元和光谱全息图像处理单元均通过图像采集单元与图像传感器CCD通信连接。
一种基于超构表面的量子寄存器芯片
著录事项变更

专利号: CN117933405A

申请人: 郑州大学
发明人: 曾勇;樊家劲;商俊娟;闫萌萌;孙晓红
申请日期: 2023-12-30
公开日期: 2024-04-26
IPC分类: B82Y20/00
摘要:
本发明公开了一种基于超构表面的量子寄存器芯片,激光束通过超构表面后汇聚成半径1μm?2μm的光斑,多个光斑规则排列形成偶极阱阵列,光斑之间的间距范围为2μm?4μm。采用基于位置调节实现单元结构相位匹配的超构表面设计方法设计超构表面,在实现相位匹配的基础上,基于相位叠加的方法设计了一种能同时替代SLM和强聚焦系统功能的超构表面器件,由圆柱形TiO2集成谐振单元组成的超构表面结构能产生高质量、高稳定性的偶极阱阵列,同时取代SLM调制器和强聚焦光路系统的功能,制备出单原子量子寄存器芯片,以此研制出偶极阱阵列和单原子量子寄存器芯片,推动单原子量子计算机集成化、芯片化的发展。
主权项:
1.一种基于超构表面的量子寄存器芯片,包括激光束,其特征在于:所述激光束通过超构表面后汇聚成半径1μm-2μm的光斑,多个光斑规则排列形成偶极阱阵列,光斑之间的间距范围为2μm-4μm。
一种用于SLM设备的储粉缸
实用新型专利权授予

专利号: CN221890866U

申请人: 宁波海天增材科技有限公司
发明人: 陈依伦; 唐建宁; 吴松立
申请日期: 2023-12-28
公开日期: 2024-10-25
IPC分类: B22F10/28
摘要:
本实用新型涉及储粉缸技术领域,公开了一种用于SLM设备的储粉缸,包括上储粉缸,上储粉缸的顶端固定连接有储粉缸盖,储粉缸盖的上顶端中部固定连接有进料管,上储粉缸的下底端固定连接有下储粉缸,下储粉缸的外侧壁中部螺栓连接有观察视窗,对储粉缸整体进行拆卸时,先将落粉开关轴进行转动90°,落粉开关轴上的若干个槽口与落粉方向呈垂直状态,而粉末也就无法通过槽口,此时工作人员即可采用行车将储粉缸整体移出,并不需要将缸内的粉末进行清理缩短维修时间,设置有分粉钣金,当粉末通过进料管进入至上储粉缸的内部后,将会通过的外侧壁与中部的凹槽进行下落,而落在上储粉缸和下储粉缸中的粉末顶端将会趋于一条直线,而非中部突出。
主权项:
1.一种用于SLM设备的储粉缸,包括上储粉缸(1),其特征在于:所述上储粉缸(1)的顶端固定连接有储粉缸盖(2),所述储粉缸盖(2)的上顶端中部固定连接有用于加料的进料管(21),所述上储粉缸(1)的下底端固定连接有下储粉缸(5),所述下储粉缸(5)的外侧壁中部设置有观察机构,所述下储粉缸(5)的下底端设置有封闭装置。
一种用于激光选区熔化工艺的纯铜粉末的表面改性方法及其应用
实质审查的生效

专利号: CN117733140A

申请人: 北京工业大学
发明人: 贺定勇;李晨阳;郭星晔;周正;谈震;邵蔚;王国红;吴旭;吴杨;马利霞
申请日期: 2023-12-28
公开日期: 2024-03-22
IPC分类: B22F1/17
摘要:
一种用于激光选区熔化工艺的纯铜粉末的表面改性方法及其应用,属于改性领域。在胺硼烷及次亚磷酸根反应体系中,采用化学镀的方法在纯铜粉末表面均匀镀镍,去离子水冲洗后干燥。得到了镍含量低于0.3wt.%,在1064nm红外激光波长下激光吸收率达45.1%的镍包覆的纯铜粉末。因被镀镍层包覆可大大降低纯铜粉末的反射率,从而减少在激光增材制造的过程中因纯铜高反射率对设备造成的损伤,并可获得普通红外激光器难以获得的高致密度纯铜块体材料。该粉末适用于配备有普通红外激光器的激光选区熔化工艺(SLM),可在不损伤激光设备的情况下获得较高致密度(99.19%)、低镍含量以及良好的导热导电性能的纯铜样品。
主权项:
1.一种用于激光选区熔化工艺的纯铜粉末的表面改性方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)将硫酸镍、硼酸、氯化铵、二甲基胺硼烷、柠檬酸三铵、硫脲、过硫酸铵采用水制备成混合均匀的化学镀镍液1;(2)将配好的化学镀镍液1放入恒温水浴槽,设定温度为50℃,保温;(3)利用氨水将溶液调到pH为7.5-9优选8,然后倒入铜粉后搅拌时间5分钟,每1000ml溶液对应500-1000g铜粉;(4)用去离子水冲洗粉末后真空干燥;(5)将硫酸镍、次磷酸钠、氯化铵混合均匀加水配置化学镀镍液2;(6)将配好的溶液放入恒温水浴槽,设定温度为40℃,保温;(7)将步骤(6)的溶液调到pH为7.5-9优选8,然后倒入步骤(4)中所得干燥好的铜粉后搅拌5-15分钟,每1000ml溶液对应500-1000g铜粉;(8)用去离子水冲洗粉末后真空干燥。
一种低孔隙率模具钢大层厚下选区激光熔化成形方法
实质审查的生效

专利号: CN117773150A

申请人: 安徽哈特三维科技有限公司
发明人: 陈大勇;武斌;秦东
申请日期: 2023-12-28
公开日期: 2024-03-29
IPC分类: B22F10/28
摘要:
本发明公开了一种低孔隙率模具钢大层厚下选区激光熔化成形方法,在SLM打印机中放置12Cr9Ni类型的模具钢粉末,设置打印参数,进行打印成形,得到低孔隙率模具钢;打印参数具体为:铺粉层厚为75?85μm,扫描间距为0.10?0.12mm,激光功率为365?375W,扫描速度为875?895mm/s。本发明通过对选区激光熔化打印参数的优化筛选,实现了在大层厚条件下,制备出低孔隙率、缺陷尺寸极小的模具钢,并且本发明打印参数不受打印位置的局限,无论是在靠近打印机风口还是远离风口,成形样品的孔隙率和缺陷尺寸都无异常变化,稳定性好,可进一步提升产能,提高经济效益。
主权项:
1.一种低孔隙率模具钢大层厚下选区激光熔化成形方法,其特征在于,具体包括:在SLM打印机中放置12Cr9Ni类型的模具钢粉末,设置打印参数,进行打印成形,得到低孔隙率模具钢;所述打印参数具体为:铺粉层厚为75-85μm,扫描间距为0.10-0.12mm,激光功率为365-375W,扫描速度为875-895mm/s。
一种Al-Mg-Zr-Ti合金及其SLM成型工艺
实质审查的生效

专利号: CN117778829A

申请人: 安徽哈特三维科技有限公司
发明人: 陈大勇; 武斌; 秦东; 沈力
申请日期: 2023-12-28
公开日期: 2024-03-29
IPC分类: C22C21/06
摘要:
本发明公开了一种SLM用Al?Mg?Zr?Ti合金粉末,其成分按重量百分比计包括:Mg 6.86?8.32%,Zr 0.2?0.4%,Ti 0.6?1.2%,余量为Al。本发明还公开了一种Al?Mg?Zr?Ti合金的SLM成型工艺,采用上述SLM用Al?Mg?Zr?Ti合金粉末,在激光功率为350?380W时选区激光熔化打印得到Al?Mg?Zr?Ti合金。本发明通过在铝镁合金中加入一定含量的Zr和Ti,在激光功率为350?380W时选区激光熔化打印时,析出数量较多的Al<subgt;3</subgt;Ti、Al<subgt;3</subgt;(Ti,Zr)、Al<subgt;3</subgt;Zr细小金属相在铝基中充当形核质点,细化组织,从而使得Al?Mg?Zr?Ti合金抗拉强度和断后伸长率同步提升。
主权项:
1.一种SLM用Al-Mg-Zr-Ti合金粉末,其特征在于,其成分按重量百分比计包括:Mg6.86-8.32%,Zr 0.2-0.4%,Ti 0.6-1.2%,余量为Al。
一种用于激光增材制造的低膨胀合金粉末及其制备方法和应用
实质审查的生效

专利号: CN117655320A

申请人: 钢铁研究总院有限公司
发明人: 王晶; 于一鹏; 张敬霖; 刘军凯; 罗曦; 卢凤双; 李增; 张建生; 张建福
申请日期: 2023-12-27
公开日期: 2024-03-08
IPC分类: C22C38/10
摘要:
本发明涉及一种用于激光增材制造的低膨胀合金粉末及其制备方法和应用,属于金属增材制造技术领域,解决了现有技术难以制备结构复杂、尺寸精密的低膨胀系数合金零件的问题。本发明公开了一种低膨胀合金粉末的制备方法,包括以下步骤:S1:根据低膨胀合金配比配料,并通过“真空熔炼+电渣重熔”工艺制备低膨胀合金母合金锭;S2:采用超音速惰性气体真空雾化制粉工艺,制备低膨胀系数合金粉末。本发明所公开的低膨胀合金粉末空心率≤1%,氧含量≤200ppm,粒径为10~65μm,满足激光增材制造工艺要求(一般指金属SLM打印工艺),可用于激光陀螺基座或其他精密合金部件制造。
主权项:
1.一种低膨胀合金粉末的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:S1:根据低膨胀合金配比配料,并通过“真空熔炼+电渣重熔”工艺制备低膨胀合金母合金锭;S2:采用超音速惰性气体真空雾化制粉工艺,制备低膨胀系数合金粉末。
一种纳米颗粒增强铁基模具钢复合材料及其制备方法
实质审查的生效

专利号: CN117862484A

申请人: 宁波匠心快速成型技术有限公司
发明人: 钱滨;程忠辉;邱建荣;秦嬉嬉
申请日期: 2023-12-26
公开日期: 2024-04-12
IPC分类: B22F10/28
摘要:
本发明公开了一种纳米颗粒增强铁基模具钢复合材料及其制备方法,涉及增材制造技术领域,以质量百分比计,包括:铁基模具钢粉末:99.9wt%~95wt%;纳米颗粒增强相:0.1wt%~5.0wt%,其中;所述纳米颗粒增强相,包括:碳化钛、碳化硼、碳化硅、氮化钛、氮化硅、氮化硼、硼化钛或碳纳米管中的一种或多种混合。本发明通过在不改变现有铁基模具钢粉末成分的基础上,提升材料的机械性能,同时提出不需要热处理即可使用的SLM成型压铸模具材料,通过添加合适的纳米颗粒增强相以及合适的添加比例,通过调节SLM成型工艺,获得优良机械性能的材料,另外由于不需要改变SLM成型粉末材料的原始合金含量和比例,具有较好的经济价值且节约成本。
主权项:
1.一种纳米颗粒增强铁基模具钢复合材料,其特征在于,以质量百分比计,包括:铁基模具钢粉末:99.9wt%~95wt%;纳米颗粒增强相:0.1wt%~5.0wt%,其中;所述纳米颗粒增强相,包括:碳化钛、碳化硼、碳化硅、氮化钛、氮化硅、氮化硼、硼化钛或碳纳米管中的一种或多种混合。
一种高塑性高强度模具钢及其制备工艺
实质审查的生效

专利号: CN117604395A

申请人: 安徽哈特三维科技有限公司
发明人: 陈大勇; 武斌; 秦东; 沈力
申请日期: 2023-12-26
公开日期: 2024-02-27
IPC分类: C22C38/54
摘要:
本发明公开了一种SLM工艺用高塑性高强度模具钢合金粉末,其成分按重量百分比计包括:C 0.09?0.13%,Mn0.05?0.2%,Cr12.1?12.6%,Ni 13.0?15.2%,Mo0.7?1.0%,Al0.8?1.0%,B 0.002?0.004%,Si 0.1?0.15%和Ti,余量为Fe;其中,Ti/(Si+B)的比值为0.7?0.8。本发明还公开了一种高塑性高强度模具钢的制备工艺。本发明通过调节Ti、B和其他元素含量,并筛选Ti/(Si+B)的比值为0.7?0.8,结合合适的制备工艺,晶粒细化并增加淬透性,最终得到高塑性高强度的模具钢。
主权项:
1.一种SLM工艺用高塑性高强度模具钢合金粉末,其特征在于,其成分按重量百分比计包括:C 0.09-0.13%,Mn0.05-0.2%,Cr12.1-12.6%,Ni13.0-15.2%,Mo0.7-1.0%,Al0.8-1.0%,B 0.002-0.004%,Si 0.1-0.15%和Ti,余量为Fe;其中,Ti/(Si+B)的比值为0.7-0.8。

金属粉末专利分析

材料体系分布
制备工艺分布
技术领域分布 (IPC分类)
💡 技术分类说明: 悬停在图表柱子上查看: B22F10/28(3D打印) • B22F9/04(制粉) • C23C24/10(涂层) • C22C19/05(镍合金) • B33Y50/02(控制) • C22F1/18(热处理)
专利类型分布
法律状态分布

主要申请人分析

主要申请人专利数量