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引入成品薄材的机体可倾斜3D打印机
发明专利申请公布后的视为撤回专利号: CN104057616A
申请人: 康子纯
发明人: 康子纯
申请日期: 2014-06-25
公开日期: 2014-09-24
IPC分类:
B29C67/00
摘要:
本发明引入成品薄材的机体可倾斜的3D打印机,包括机体可倾斜的3D打印机,薄材引入机构,支持激光烧结、烧熔工艺(SLS、SLM)的铺粉机构,供薄材引入机构或铺粉机构移动就位的导轨与驱动机构,在机体可倾斜3D打印机加工平顶中空体或多层蜂窝结构工件的平顶薄层时,薄材引入机构将成品薄材引入机体可倾斜的3D打印机的加工平台上的工件加工面,从而可采用SLS工艺或SLM工艺或FDM工艺或TDP工艺,在此引入薄材上继续加工,完成平顶中空体或多层蜂窝结构工件的加工。多层蜂窝结构工件在航天、海洋、工业、化工、医药、仓储、运输及防核、防化、防生物、防毒、防污染、防泄漏、防撞击、防压等各领域及实验室具有重要的潜在用途。
主权项:
1.本发明引入成品薄材(薄板、薄片、薄膜)的机体可倾斜3D打印机,包括:机体可倾斜的3D打印机,薄材引入机构,支持激光烧结工艺(SLS)的铺粉机构,供薄材引入机构或铺粉机构移动就位的导轨与驱动机构;所述机构可倾斜的3D打印机,其特征是,机体可倾斜的3D打印机固定在地面,该3D打印机依据加工的平顶中空体工件或多层蜂窝结构工件的性质和要求,选择配置SLS工艺、SLM工艺、FDM工艺,TDP工艺所需的喷头、喷嘴、激光器、微滴喷射喷头等部件;所述薄材引入机构,其特征是,薄材引入机构包括薄材存储及送进卷筒,引入薄材的送进臂,吸盘,热粘压辊筒;所述支持激光烧结工艺(SLS)、激光烧熔工艺(SLM)的铺粉机构,其特征是,铺粉机构包括供粉活塞缸和铺粉辊;所述供薄材引入机构或铺粉机构移动就位的导轨与驱动机构,其特征是,依据预先设计的薄材引入机构或铺粉机构与机体可倾斜3D打印机的相对位置,设计供薄材引入机构或铺粉机构准确移动就位的导轨与驱动机构。
用于借助于SLM制造的构件的制造方法和调整方法
发明专利申请公布后的驳回专利号: CN105377534A
申请人: 西门子公司
发明人: 奥尔加·戴斯; 贝恩德·赖纳茨; 亚普·万坎彭
申请日期: 2014-06-16
公开日期: 2016-03-02
IPC分类:
B29C67/00
摘要:
本发明涉及一种用于建模方法(11)的调整方法(10),其中根据目标几何形状(17)建立用于要通过选择性激光熔化法(24)产生的对象的从目标几何形状(17)中推导出的模型几何形状(12)。在根据本发明的调整方法(10)中,由推导出的模型几何形状(12)通过借助于校正因数(18)进行的尺寸调整(13)和/或通过借助于校正几何形状(19)进行的几何形状调整(15)产生调整的模型几何形状(16)。
主权项:
1.一种用于建模方法(11)的调整方法(10), 其中根据目标几何形状(17)建立用于要通过选择性激光熔化法 (24)产生的对象的从所述目标几何形状(17)中推导出的模型几何形 状(12), 其特征在于,由推导出的所述模型几何形状(12)通过借助于校正 因数(18)进行的尺寸调整(13)和/或通过借助于校正几何形状(19) 进行的几何形状调整(15)产生调整的模型几何形状(16)。
光学模块以及光照射装置
发明专利申请公布后的驳回专利号: CN105103036A
申请人: 浜松光子学株式会社
发明人: 井上卓; 寺田浩敏
申请日期: 2014-03-25
公开日期: 2015-11-25
IPC分类:
G02B27/28
摘要:
光学模块(1A)具备偏振光分束器(10A)、分别具有使偏振光面旋转的非互易性的光学活性并且分别配置于照射光(L1)中的透过了光分支面(11)的第1偏振光成分(L2)以及在光分支面(11)上被反射了的第2偏振光成分(L4)的光路上的偏振光元件(20)以及(40)、调制通过了第1偏振光元件(20)的第1偏振光成分(L2)并进行反射的第1反射型SLM(30)、调制通过了第2偏振光元件(40)的第2偏振光成分(L4)并进行反射的第2反射型SLM(50)。在再次通过了第1偏振光元件(20)之后在光分支面(11)上被反射的第1调制光(L3)和在再次通过了第2偏振光元件(40)之后透过了光分支面(11)的第2调制光(L5)被互相合波。
主权项:
1.一种光学模块,其特征在于:是在光照射装置中调制从光源输出的照射光并生成调制光,并且向照射对象物提供该调制光的光学模块,具备:偏振光分束器,具有反射包含于所述照射光的s偏振光成分并透过p偏振光成分的光分支面;第1偏振光元件,具有使偏振光面旋转的非互易性的光学活性并且被配置于所述照射光中的透过了所述光分支面的第1偏振光成分的光路上;第1反射型空间光调制器,调制通过了所述第1偏振光元件的所述第1偏振光成分并生成第1调制光并且向所述第1偏振光元件反射所述第1调制光;第2偏振光元件,具有使偏振光面旋转的非互易性的光学活性并且被配置于所述照射光中的在所述光分支面上被反射了的第2偏振光成分的光路上;以及第2反射型空间光调制器,调制通过了所述第2偏振光元件的所述第2偏振光成分并生成第2调制光并且向所述第2偏振光元件反射所述第2调制光,在再次通过了所述第1偏振光元件之后在所述光分支面上被反射了的所述第1调制光和在再次通过了所述第2偏振光元件之后透过了所述光分支面的所述第2调制光被互相合波并从所述偏振光分束器被输出,而作为所述调制光向所述照射对象物出射。
光学模块以及观察装置
授权专利号: CN105122116A
申请人: 浜松光子学株式会社
发明人: 井上卓; 寺田浩敏
申请日期: 2014-03-25
公开日期: 2015-12-02
IPC分类:
G02B27/28
摘要:
光学模块(1A)具备具有光分支面(11)的偏振光分束器(10A)、分别具有使偏振光面旋转的非互易性的光学活性并且分别配置于透过光分支面(11)的第1偏振光成分(L2)以及在光分支面(11)上被反射的第2偏振光成分(L4)的光路上的偏振光元件(20)以及(40)、调制通过第1偏振光元件(20)的第1偏振光成分(L2)并进行反射的第1反射型SLM(30)、调制通过第2偏振光元件(40)的第2偏振光成分(L4)并进行反射的第2反射型SLM(50)。在再次通过第1偏振光元件(20)之后在光分支面(11)上被反射的第1调制光(L3)和在再次通过第2偏振光元件(40)之后透过光分支面(11)的第2调制光(L5)被互相合波。
主权项:
1.一种光学模块,其特征在于:具备:偏振光分束器,具有反射包含于入射光的s偏振光成分并透过p偏振光成分的光分支面;第1偏振光元件,具有使偏振光面旋转的非互易性的光学活性并且被配置于所述入射光中的透过所述光分支面的第1偏振光成分的光路上;第1反射型空间光调制器,调制通过所述第1偏振光元件的所述第1偏振光成分并生成第1调制光并且向所述第1偏振光元件反射所述第1调制光;第2偏振光元件,具有使偏振光面旋转的非互易性的光学活性并且被配置于所述入射光中的在所述光分支面上被反射的第2偏振光成分的光路上;以及第2反射型空间光调制器,调制通过所述第2偏振光元件的所述第2偏振光成分并生成第2调制光并且向所述第2偏振光元件反射所述第2调制光,在再次通过所述第1偏振光元件之后在所述光分支面上被反射的所述第1调制光和在再次通过所述第2偏振光元件之后透过所述光分支面的所述第2调制光被互相合波并从所述偏振光分束器被输出。
氧化铝/氧化锆SLM陶瓷粉末材料及其制备方法
专利权的终止专利号: CN103771837A
申请人: 中国人民解放军第四军医大学
发明人: 高勃; 刘治; 杨海鸥; 宋阚; 王伟娜; 吴江
申请日期: 2013-12-31
公开日期: 2014-05-07
IPC分类:
C04B35/64
摘要:
本发明涉及一种新的用于SLM成型的Al2O3/ZrO2粉末材料及其制备方法,可在经过激光熔覆成型后形成内部组织结构均一,无明显物相偏析的口腔用Al2O3/ZrO2复相陶瓷材料,所采用的制备方法为利用电磁感应加热炉以及激光器对粉床进行二次预热,到预定预热温度后进行激光熔覆成型。可以有效减小陶瓷材料成型时熔池内外的温度梯度,降低内部热应力,减少材料表面及内部裂纹的生成,提高其力学性能。采用该粉末配比以及制备方法成型的SLM Al2O3/ZrO2复相陶瓷材料内部组织均匀一致,无物相偏析,表面及内部无明显裂纹生成,力学性能较好,有望在将来作为全瓷冠,桥及嵌体的材料应用于口腔修复临床。
主权项:
1.一种用于SLM成型的Al2O3/ZrO2粉末材料,其特征在于,由Al2O3粉和ZrO2粉按质量百分比组成,Al2O3粉占62.5%,ZrO2粉占37.5%,其中,ZrO2粉内添加有2%的Y2O3稳定剂,制得的该Al2O3/ZrO2粉末材料D50粒径小于100μm。
一种用于选区激光熔覆粉末成型加工的铺粉装置
专利权的终止专利号: CN203635916U
申请人: 中国人民解放军第四军医大学
发明人: 高勃; 刘治
申请日期: 2013-12-31
公开日期: 2014-06-11
IPC分类:
B22F3/105
摘要:
本实用新型公开了用于选区激光熔覆粉末成型加工的铺粉装置,包括底座,在底座上方放置有带凹槽的基板,在不锈钢底座四个角固定有引导柱,在带凹槽的基板上方通过引导柱至少放置有一个中空的不锈钢板。能够迅速方便的置于LSF系统设备中,在不需要对整体设备做大的改换的条件下在LSF设备上实现对SLM加工技术的应用,其结构简单,加工制作方便,造价较低。
主权项:
1.一种用于选区激光熔覆粉末成型加工的铺粉装置,其特征在于,包括底座(1),在底座(1)上方放置有带凹槽的基板(3),在不锈钢底座(1)四个角固定有引导柱(2),在带凹槽的基板(3)上方通过引导柱(2)至少放置有一个中空的不锈钢板(4)。
不对称光波导光栅共振器及DBR激光器
发明专利权授予专利号: CN105794057A
申请人: 英特尔公司
发明人: M·西萨克; J·波维顿
申请日期: 2013-12-27
公开日期: 2016-07-20
IPC分类:
G02B5/18
摘要:
将包括不对称谐振光栅的单片不对称光波导光栅共振器放置在波导中。提供沿着第一光栅长度的第一光栅强度,且提供沿着第二光栅长度的高于第一光栅强度的第二光栅强度。在有益的实施例中,通过波导和光栅参数的适当设计,沿着第一光栅长度的有效折射率充分匹配沿着第二光栅长度的有效折射率。良好匹配的有效折射率可以允许谐振光栅工作在高度不对称单纵模(SLM)。在进一步的实施例中,不对称单片DFB激光二极管包括具有用于高度不对称工作的波导和光栅参数的前光栅部分和后光栅部分。
主权项:
1.一种单片不对称激光二极管,包括:光波导,其带有沿着所述波导的纵向长度从衬底延伸并由所述波导的横向宽度分开的相对侧壁;前衍射光栅部分,其沿着前光栅长度被放置在所述波导中;后衍射光栅部分,其沿着后向光栅长度被放置在所述波导中,其中,所述后光栅部分的强度大于所述前光栅部分的强度,并且沿着所述前光栅长度的所述波导具有小于沿着所述后光栅长度的第二宽度的第一宽度。
OFDM系统降峰均比技术中SLM和PTS的边带信息传输方法
专利权的终止专利号: CN102025681A
申请人: 东南大学
发明人: 时龙兴;罗毅;张萌;吴建辉;周传海;戴亮;蔡琰
申请日期: 2010-12-21
公开日期: 2013-08-28
IPC分类:
H04L27/26
摘要:
本发明提出了OFDM系统降峰均比技术中SLM和PTS的边带信息传输方法。这种方法利用了IFFT的线性性质,即在频域将边带信息和数据信息分别组合成边带符号和数据符号,数据符号中将传送数据的位置存放数据,将传边带的位置置零,在边带符号中将数据位置置零,将边带位置存边带信息。将数据符号和边带符号分别IFFT以后在时域相加得到最终的时域信息,接收端对接收的数据FFT后从已知的边带位置即可提出边带信息。这种方法应用到SLM方法中不会引起PAPR的再生问题,而应用于PTS方法会引起部分的峰值再生,但在不影响误码率性能的前提下很好地降低了系统的峰均比。
主权项:
1.一种OFDM系统降峰均比技术中SLM和PTS的边带信息传输方法,其特征是在OFDM系统的降峰均比过程中,在发射端,数据进行逆傅立叶变换IFFT之前的频域数据分成数据符号和边带符号,在数据符号中将传送数据的位置存放数据,将传边带的位置置零,在边带符号中将数据位置置零,将边带位置存边带信息;将数据符号和边带符号分别逆傅立叶变换IFFT以后,在时域相加得到最终的时域信息,实现数据信息和边带信息一起传输;接收端对接收的数据傅立叶变换FFT后,从已知的边带位置即可提取边带信息。
光学成像写入系统
发明专利权授予专利号: CN102656514A
申请人: 派因布鲁克成像系统公司
发明人: T·莱迪格
申请日期: 2010-12-09
公开日期: 2016-01-13
IPC分类:
G03B27/42
摘要:
本发明系关于一种在光刻制程中将光掩膜数据图案施用于基板的系统及方法。在一实施例中,该方法包含下列步骤:提供具有复数个空间光调变器(SLM)成像单元的平行成像写入系统,其中该等SLM成像单元排列成一个或多个平行阵列;接收待写入基版的光掩膜数据图案;处理该光掩膜数据图案,以形成复数个对应于基板不同区域的分区光掩膜数据图案;辨识出基板上一个区域中一个或多个待受对应SLM成像的对象;以及藉由执行多重曝光以将该对象成像于基板的该区域中,而控制该等SLM将该等分区光掩膜数据图案平行写入。
主权项:
1.一种在光刻制程中处理相邻成像区之间的影像数据的方法,包含下列步骤:提供平行成像写入系统,其中该平行成像写入系统包含复数个空间光调变器(SLM)成像单元,且该等SLM成像单元排列成一个或多个平行阵列;接收待写入基版的光掩膜数据图案;处理该光掩膜数据图案,以形成复数个对应于该基板不同区域的分区光掩膜数据图案;辨识出基板上一个区域中一个或多个待受对应SLM成像的对象;以及藉由控制该等SLM将该等分区光掩膜数据图案平行写入,而执行多重曝光以将该对象成像于基板的该区域中。
光学成像写入系统
专利申请权、专利权的转移专利号: CN102656515A
申请人: 派因布鲁克成像系统公司
发明人: T·莱迪格
申请日期: 2010-12-09
公开日期: 2015-03-11
IPC分类:
G03B27/42
摘要:
本发明涉及一种在光刻制程中将光掩膜数据图案施用于基板的系统及方法。在一个实施例中,该方法包含下列步骤:提供具有复数个空间光调制器(SLM)成像单元的平行成像写入系统,其中该SLM成像单元排列成一个或多个平行阵列;接收待写入基板的光掩膜数据图案;处理该光掩膜数据图案,以形成复数个对应于基板不同区域的分区光掩膜数据图案;辨识出基板上一个区域中待受对应SLM成像的对象;沿该对象的边缘选择评估点;配置该平行成像写入系统使其利用该评估点成像该对象;以及藉由控制该SLM将该分区光掩膜数据图案平行写入,而执行多重曝光以将该对象成像于基板的该区域中。
主权项:
1.一种在光刻制程中处理影像数据的方法,包含下列步骤:提供平行成像写入系统,其中该平行成像写入系统包含复数个空间光调制器(SLM)成像单元,且该SLM成像单元排列成一个或多个平行阵列;接收待写入基板的光掩膜数据图案;处理该光掩膜数据图案,以形成复数个对应于该基板不同区域的分区光掩膜数据图案;辨识出基板上一个区域中一个或多个待受对应SLM成像的对象;沿该对象的边缘选择评估点;配置该平行成像写入系统使其利用该评估点成像该对象;以及藉由控制该等SLM将该等分区光掩膜数据图案平行写入,而执行多重曝光以将该对象成像于基板的该区域中。
基于网络知识共享的智能化SLM加工系统及其运行方法
发明专利申请公布后的视为撤回专利号: CN102054126A
申请人: 华南理工大学
发明人: 杨永强;刘杰
申请日期: 2010-12-06
公开日期: 2011-05-11
IPC分类:
G06F17/50
摘要:
本发明公开了基于网络知识共享的智能化SLM加工系统及其实现方法,本地SLM加工系统根据激光与工件的相互作用原理,按照所用激光和材料的特性,运用本地同步知识库中已有的经验知识,进行SLM加工工艺参数的智能推理,并用实际加工得到的经验数据来更新本地同步知识库,本地同步知识库能够从网络共享知识库中获取新的经验数据来更新自己,并将实际生产中获得的新经验数据发送给网络共享知识库,更新网络共享知识库,本发明可以大大减少由激光和工件不同带来的SLM加工工艺研发时间,避免重复工作带来的时间浪费,提高工作效率;并有利于促进全球知识共享,为未来网络化制造、全球制造等先进制造技术打下基础。
主权项:
1.基于网络知识共享的智能化SLM加工系统,其特征在于,包括网络中心服务器、本地SLM加工系统,所述网络中心服务器与本地SLM加工系统网络连接;所述网络中心服务器包括网络共享知识库,所述本地SLM加工系统包括本地同步知识库;所述网络共享知识库和本地同步知识库用于保存SLM加工工件的过程中所得到的经验数据,该经验数据包括工件的类型、工件的几何特征、工件材料属性、所选用的激光器参数、加工工艺参数。
一种基于联合变换相关器的全局运动检测方法
发明专利申请公布后的视为撤回专利号: CN102109532A
申请人: 中国科学院上海技术物理研究所
发明人: 周伟;丁雷;李丹
申请日期: 2010-11-26
公开日期: 2011-06-29
IPC分类:
G01P13/02
摘要:
本发明公开了一种基于联合变换相关器的全局运动检测方法,该方法采用高帧频小型面阵探测器为采样单元,联合变换光学相关器作为傅立叶变换模拟处理单元,DSP实现相关峰实时检测算法,最终实现高精度实时的运动矢量检测。本方法对输入图像的噪声不敏感,抗干扰能力强;位移检测结果准确,测量精度可以到达1个像素级。
主权项:
1.一种基于联合变换相关器的全局运动检测方法,其特征在于包括以下步骤:1)首先由FPGA产生探测器驱动程序,驱动探测器CCD1工作,控制积分时间尽量小,高速探测器实时对运动场景进行采样,采样探测器像素128X128,采样帧频每秒100帧频以上;2)FPGA对采样得到的连续两帧有像移的图像进行实时合并,将两帧128X128的图像合并成一帧256X128的图像;3)通过VGA控制芯片将合成后的图像实时的送入空间光调制器SLM中,前面合成的图像不断对SLM进行刷新,激光器产生的相干光经过准直扩束后通过一偏振镜成线偏振光,SLM对线偏振光进行幅度调制,产生和送入SLM图像成正比的光场分布;4)通过SLM的光场再经过一傅立叶透镜进行光学傅立叶变换,选择合适的透镜的孔径和焦距,在后焦面上可以获得前面合成图像的联合功率谱图像,并在后焦面上用CCD2对联合功率谱进行采样;5).将采样获得的联合功率谱图像送入频谱预处理模块中,FPGA实时对联合功率谱图像进行二值化处理;获得的二值化联合功率谱图像再实时送入另一个SLM中,经过步骤4一样的傅立叶变换过程,最后在透镜后焦面上获得相关峰图像,再用CCD3对相关峰图像进行实时采样;6)CCD3获得的相关峰图像通过控制模块送入DSP中,DSP实现质心检测算法,检测出两个峰值的位置,两峰值位置的差值就是图像位移量的两倍,最后将位移结果通过RS232串口或USB接口传出。
一种峰值平均功率比抑制方法及系统
发明专利申请公布后的驳回专利号: CN101789924A
申请人: 北京北方烽火科技有限公司
发明人: 高知;余建国
申请日期: 2009-12-31
公开日期: 2010-07-28
IPC分类:
H04L1/06
摘要:
本发明涉及一种峰值平均功率比抑制方法,所述方法包括:A、在第一个符号周期,X1和X2分别乘以同一个随机序列,分别计算PAPR,记为PAPR[X1]和PAPR[X2],随机序列从集合中选取;B、比较PAPR[X1]和PAPR[X2],将最大值记作PAPR(X);C、重复上述步骤,选取具有最小PAPR(X)的信号X1*和X2*,同时选取相应的随机向量;D、重复上述步骤直到天线的最后一个符号;E、所有符号再经过压扩器处理再一次降低了峰均比。本发明在研究了以上各种降低PAPR方法的基础上,提出了一种峰值平均功率比抑制方法和系统,适用于多天线的LTE系统,且降低PAPR的能力远远好于单独的SLM方法和压扩法。
主权项:
1.一种峰值平均功率比抑制方法,其特征在于,所述方法包括:A、在第一个符号周期,信号序列X1和X2分别乘以同一个随机向量,分别计算PAPR,记为PAPR[X1]和PAPR[X2],随机向量从集合中依次选取;B、依次比较乘以同一个随机向量得到的PAPR[X1]和PAPR[X2],将每次比较的最大值记作PAPR(X);C、比较上述PAPR(X),选取具有最小PAPR(X),分别记录所述最小PAPR(X)对应的信号X1*和X2*,以及相应的随机向量;D、重复上述步骤直到第一个符号周期中最后一个符号;E、所有符号通过压扩器进行处理。
一种多孔金属零部件的近净成形方法
发明专利权授予专利号: CN101722306A
申请人: 华中科技大学
发明人: 史玉升;李瑞迪;王志刚;魏青松
申请日期: 2009-12-10
公开日期: 2012-01-25
IPC分类:
B22F3/11
摘要:
本发明公开了一种多孔金属零部件的近净成形方法,步骤为:①先设计出零件的三维CAD模型,保存为STL文件,并输送到SLM快速成形设备;②将设备抽真空后通入保护性气体;③送粉机构在金属基板上平铺一层厚度0.05~0.15mm、粒径为10-100μm的金属粉末;④采用激光功率≥100W的激光束对切片边界的外轮廓进行扫描,使外轮廓熔化;⑤重复步骤③-④,直成形完毕;⑥将成形零件的外壳与装载在外壳中的粉末,整体置于高温烧结炉中进行烧结成形。该方法无需模具,具有工艺过程简单易行、可制造复杂形状的特点。
主权项:
1.一种多孔金属零部件的近净成形方法,其特征在于该方法包括下述步骤:(1)采用三维造型软件设计出零件的三维CAD模型,然后由切片软件处理为后保存为STL文件,将STL文件的数据信息输送到选择性激光熔化快速成形设备;(2)将择性激光熔化快速成形设备的成型腔抽成真空,然后通入保护性气体;(3)送粉机构在金属基板上平铺一层厚度为0.05~0.15mm、粒径为10-100μm的金属粉末;(4)采用激光功率大于或等于100W的激光束对切片边界的外轮廓进行扫描,使外轮廓熔化;(5)重复步骤(3)-(4),直至整个零件外壳成形完毕;(6)将成形零件的外壳与装载在外壳中的粉末,整体置于高温烧结炉中进行烧结成形。
光调制装置和激光加工装置
发明专利权授予专利号: CN102227667A
申请人: 浜松光子学株式会社
发明人: 伊藤晴康;井上卓;松本直也
申请日期: 2009-11-26
公开日期: 2014-08-06
IPC分类:
B23K26/03
摘要:
本发明涉及光调制装置和激光加工装置。光调制装置(101A)包括:反射型SLM(107),其调制沿按第1方向延伸的第1光路而入射的激光(Lr);电介质多层膜镜(106),形成于使照明光(Li)透射的透光性部件(105)上,将从反射型SLM(107)而入射至前面的激光(Lr)反射到沿与第1方向相交叉的第2方向延伸的第2光路上,并将入射到背面的照明光(Li)在第2光路上透射;聚光透镜(109),从电介质多层膜镜(106)接收照明光(Li)和激光(Lr),并聚光照明光(Li)和激光(Lr)。
主权项:
1.一种光调制装置,其特征在于,是一种对激光进行调制并输出,并且将波长不同于所述激光的照明光输出到与调制后的所述激光相同的光路上的光调制装置,包括:反射型的空间光调制器,从斜前方接收沿第1光路入射的所述激光,一边反射该激光,一边在二维排列的多个像素的每个中调制所述激光,其中,所述第1光路沿第1方向延伸;电介质多层膜镜,形成于使所述照明光透射的透光性部件上,将从所述空间光调制器入射到前面的所述激光反射到沿与所述第1方向交叉的第2方向延伸的第2光路上,并且将入射到背面的所述照明光透射到所述第2光路上;聚光透镜,从所述电介质多层膜镜接收所述照明光和所述激光,并将所述照明光和所述激光聚光。
基于JTC的高精度光电混合像移测量装置及其方法
发明专利权授予专利号: CN102062572A
申请人: 中国科学院西安光学精密机械研究所
发明人: 易红伟;李英才;李旭阳;马臻;姚大雷;赵惠
申请日期: 2009-11-13
公开日期: 2012-07-11
IPC分类:
G01B11/00
摘要:
本发明涉及一种基于JTC的高精度光电混合像移测量装置,包括激光器、设置在该激光器光路上的准直镜、设置在该准直镜的出射光路上的空间光调制器SLM、设置在空间光调制器SLM的出射光路上的傅立叶透镜和用于接收该傅立叶透镜的出射光线的CCD器件,该装置还包括连接于所述CCD器件的输出端的用于结合联合变换功率谱数据进行局部离散傅立叶变换计算、来获得互相关峰邻域的升采样影像的数字处理单元。本发明只需要一套光学傅立叶变换装置,有利于缩小整个检测装置的体积、成本,降低系统的复杂性,所提出的互相关峰检测技术能够在不增加计算量的情况下获得互相关峰的高分辨率内插数据,实现对影像间错位或像移的高精度检测。
主权项:
1.一种基于JTC的高精度光电混合像移测量装置,包括激光器、设置在该激光器光路上的准直镜、设置在该准直镜的出射光路上的空间光调制器SLM、设置在空间光调制器SLM的出射光路上的傅立叶透镜和用于接收该傅立叶透镜的出射光线的CCD器件,其特征在于:该装置还包括连接于所述CCD器件的输出端的用于结合联合变换功率谱数据进行局部离散傅立叶变换计算、来获得互相关峰邻域的升采样影像的数字处理单元。
回收镓的方法
专利权的终止专利号: CN102041382A
申请人: 光洋应用材料科技股份有限公司
发明人: 连建洲;李重庆;黄逸文;陈海瑞
申请日期: 2009-10-23
公开日期: 2012-12-12
IPC分类:
C22B3/26
摘要:
本发明揭示了一种自含有铜镓的进料溶液中分离并回收镓的方法。本发明所揭露的方法利用支撑式液膜(SLM)结合分散反萃液,来增进对镓的萃取效率,并同时增加膜的稳定度以及减少操作成本。另外,本发明所揭露的方法可选择性自含有铜镓的进料溶液中移除镓。
主权项:
1.一种自含有铜镓的进料溶液中分离并回收镓的方法,其包含:提供一设于微孔洞支撑材的液膜;提供一分散反萃液,其包含一水相反萃溶液分散于一有机溶液中,该有机溶液包含一萃取剂;调整该含有铜镓的进料溶液的初始酸碱值至不大于3.5或加入一浓缩酸至该进料溶液使得该进料溶液含有初始浓度大于或等于10N的酸;在该设于微孔洞支撑材的液膜的一侧处理该含有铜镓的进料溶液,并使该设于微孔洞支撑材的液膜的另一侧通过使用该分散反萃液,而选择性移除该含有铜镓的进料溶液中的镓;以及将该部份或全部分散反萃液分成一有机相与该水相反萃溶液,该水相反萃溶液包含一浓缩的镓溶液。
针对快速成型设备的改进
发明专利申请公布后的视为撤回专利号: CN102186649A
申请人: 亨斯迈先进材料(瑞士)有限公司
发明人: M·A·彼得森;N·H·拉森;J·格雷林;O·汉加尔德
申请日期: 2009-10-09
公开日期: 2011-09-14
IPC分类:
G03F7/038
摘要:
本发明涉及与用于通过截面的添加处理来制造三维物体的快速成型设备有关的改进。所述改进涉及距离、保护性窗口和防碰撞探测系统。
主权项:
1.一种用于从光敏材料产生三维物体的设备,所述设备包括:带有光照源的曝光系统(ES),扫描杆,该曝光系统(ES)被安装到所述扫描杆,控制单元(CU),由此所述曝光系统(ES)包括:带有多个单独可控光调制器(LM)的至少一个空间光调制器(SLM),被光耦合到所述至少一个空间光调制器(SLM)的输入光学器件(IO),被光耦合到所述至少一个空间光调制器(SLM)的输出光学器件(OO),其中所述输入光学器件(IO)和输出光学器件(OO)促进从所述光照源发射的光经由所述空间光调制器(SLM)的所述单独可控光调制器(LM)到光照区域(IA)的传输,其中所述空间光调制器(SLM)使得能够根据源自所述控制单元(CU)的控制信号来确立通过所述输入光学器件(IO)传输的光的图案,其中所述输出光学器件(OO)使得能够在光照区域(IA)上聚焦来自所述至少一个空间光调制器(SLM)的光的图案,其中在输出光学器件(OO)和光照区域(IA)之间的距离d是在0.5和20mm之间。
快速原型制作设备的改进
发明专利申请公布后的视为撤回专利号: CN102186651A
申请人: 亨斯迈先进材料(瑞士)有限公司
发明人: E.普茹瓦斯;N.H.拉森;J.格雷林;O.汉加尔德
申请日期: 2009-10-09
公开日期: 2011-09-14
IPC分类:
B29C67/00
摘要:
立体光刻设备和用于立体光刻设备的曝光系统,其中发光二极管被用作光源。本发明涉及对齐来自发光二极管的光并且涉及发光二极管的更换和控制。
主权项:
1.一种用于立体光刻设备(SA)的曝光系统(ES),包含:发射波长介于200nm和l00000nm之间的光的至少一个发光二极管(LD),具有多个单独可控光调制器(LM)的至少一个空间光调制器(SLM),光学耦合到所述至少一个空间光调制器(SLM)的输入光学元件(IO),光学耦合到所述至少一个空间光调制器(SLM)的输出光学元件(OO),至少一个控制单元(CU),其中所述输入光学元件(IO)和输出光学元件(OO)促进从所述至少一个发光二极管(LD)发射的光经由所述空间光调制器(SLM)的所述单独可控光调制器(LM)透射到照射区域(IA),其中所述空间光调制器(SLM)使得能够依照来自所述控制单元(CU)的控制信号建立来自所述输入光学元件(IO)的光的图案,其中所述输出光学元件(OO)使得能够将来自所述至少一个空间光调制器(SLM)的光的图案聚焦在照射斑点(ISP)上,以及其中所述曝光系统(ES)能够将从所述发光二极管(LD)发射的相对于发光二极管(LD)的光轴(OALD)所成角度大于45度的光对齐,从而使这样的光指向相对于光轴(OALD)平行的方向。
数字信息立体显示的多通道全息记录方法
专利权的终止专利号: CN101661265A
申请人: 哈尔滨师范大学
发明人: 于晓艳;荣宪伟;张飙;关承祥;孙文军;励强华;王旭宏
申请日期: 2009-09-29
公开日期: 2011-01-05
IPC分类:
G03H1/12
摘要:
数字信息立体显示的多通道全息记录方法,属于图像处理领域,本发明是为了解决现有全息图单通道记录方法记录时间过长的问题。本发明方法包括以下步骤:1.将三维图像转换成不同视角的二维图像阵列;2.将每幅二维图像按光学通道格局分割处理成子图像,3.运算处理子图像获得通道合成图像,在液晶空间光调制器SLM上显示,控制全息底片移动,每移动一次,每个光学通道显示一幅子合成图像,并在全息底片记录一个点,记录一个点的过程为:激光器输出激光同时控制e个电动快门开启工作,光学通道同时记录,形成的物光束打在全息底片的一侧;另一部分激光打在全息底片的背面上,逐点记录,多个光学通道在全息底片上记录的通道全息图拼合形成整个全息图。
主权项:
1.数字信息立体显示的多通道全息记录方法,该方法使用的装置包括D/A-A/D数据采集卡(1)、计算机(2)、视频分配器(3)、二维位移总成装置(4)和e个全息图像制作光学组件单元(5),每个全息图像制作光学组件单元(5)具有f个光学通道,所述f个光学通道沿直线方向均布,e个全息图像制作光学组件单元(5)之间平行等距设置,e个全息图像制作光学组件单元(5)的光学通道组成e×f光学通道阵列,所述光学通道阵列与一个液晶空间光调制器(SLM)相对应,其特征在于,实现本发明方法包括以下步骤:步骤一、在计算机(2)中将三维图像转换成a×b个不同视角的二维图像阵列,其中a和b为正整数;f个子图像,每个子图像对应全息底片(8)上的一个显示单元;形成的子图像阵列[Z11,Z12,…,Z1f;Z21,Z22,…,Z2f;…;Ze1,Ze2,…,Zef],每个子图像具有M×N个像素,每个子图像具有的像素形成的阵列为[D11,D12,…,D1N;D21,D22,…,D2N;…;DM1,DM2,…,DMIN],其中,e、f、M和N为正整数;步骤三、计算机(2)将所述a×b个不同视角的二维图像阵列运算和合成处理获得e×f个光学通道的通道合成图像Pij,每个通道合成图像Pij由M×N个子合成图像Pxy组成,计算机(2)通过D/A-A/D数据采集卡(1)、二维位移总成装置(4)控制全息底片(8)做底片平面内二维移动,全息底片(8)每移动一次,每个光学通道通过视频分配器(3)在液晶空间光调制器(SLM)上显示一幅子合成图像Pxy,所述光学通道的输出记录在全息底片(8)上形成一个像素点,通过全息底片(8)的二维移动,使每个光学通道的输出遍历全息底片(8)上的对应显示单元中的所有像素点,全息底片(8)上的每个显示单元中第x行第y列的像素点的形成过程为:计算机(2)通过D/A-A/D数据采集卡(1)控制e个全息图像制作光学组件单元(5)的电动快门(7)同时工作,全息图像制作光学组件单元(5)的激光器(6)输出的激光通过电动快门(7)输出,经单元分束镜分束后的分束透射光依次经过f-1个物光分束镜透射后,由第一全反镜(M1)反射形成第f个光学通道的入射光,所述单元分束镜的分束透射光依次经过f-1个物光分束镜反射后形成第一至第f-1个光学通道的入射光,f个光学通道入射光光强相同,每个光学通道的出射光形成物光束汇聚到全息底片(8)上,所述单元分束镜的分束反射光由第二全反镜(M2)反射,再依次经过f-1个参考光分束镜透射后,由第三全反镜(M3)反射形成第f个光学通道的参考光,所述第二全反镜(M2)反射光依次经过f-1个参考光分束镜反射后形成第一至第f-1个光学通道的参考光,f个参考光的光强相同,每个光学通道的物光束与其对应的参考光在全息底片(8)上重合,其中,1≥i≥e,1≥j≥f,1≥x≥M,1≥y≥N,每个光学通道按照上述方法同时在全息底片(8)上记录形成e×f个通道全息图,所述e×f个通道全息图拼合形成整个全息图。
金属粉末专利分析
材料体系分布
制备工艺分布
技术领域分布 (IPC分类)
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B22F10/28(3D打印) • B22F9/04(制粉) •
C23C24/10(涂层) • C22C19/05(镍合金) •
B33Y50/02(控制) • C22F1/18(热处理)